Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition

英文缩写：WCVD

英文全称：Tungsten (Wolfram) Chemical Vapor Deposition

中文释义：钨（钨）化学气相沉积

中文拼音：wū wū huà xué qì xiāng chén jī

所属分类：Academic & Science

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